為便于供應(yīng)商及時(shí)了解政府采購信息,根據(jù)《財(cái)政部關(guān)于開展政府采購意向公開工作的通知》(財(cái)庫〔2020〕10號(hào))等有關(guān)規(guī)定,現(xiàn)將( (略) ) 2022 年 11 (至)12 月采購意向公開如下:
序號(hào) | 采購單位 | 采購項(xiàng)目名稱 | 采購品目 | 采購需求概況 | 預(yù)算金額(萬元) | 預(yù)計(jì)采購日期 | 備注 |
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1 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]電子工業(yè)專用生產(chǎn)設(shè)備 | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 184 | 2022-12 | 無 |
2 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]真空應(yīng)用設(shè)備 | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 80 | 2022-12 | 無 |
3 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]電子工業(yè)專用生產(chǎn)設(shè)備 | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 6 | 2022-12 | 無 |
4 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]工業(yè)電熱設(shè)備(電爐) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 8 | 2022-12 | 無 |
5 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]工業(yè)電熱設(shè)備(電爐) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 2 | 2022-12 | 無 |
6 | (略) | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 | [A*]容器清洗機(jī)械 | 半導(dǎo)體工藝設(shè)備中的光刻機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、管式爐和烘箱等是光刻工藝的主要設(shè)備。激光直寫光刻機(jī)主要用于激光直寫光刻,可直接對襯底上的光刻膠進(jìn)行直寫,對光敏材料進(jìn)行圖案化加工,從而實(shí)現(xiàn)有機(jī)半導(dǎo)體的圖案,可以制作掩膜版,具有三維灰階光刻功能;可應(yīng)用于光學(xué)器件 DOE、微光學(xué)圖形、柔性電子、掩膜版、光學(xué)圖像、MEMS 等圖形化微納加工。 | 20 | 2022-12 | 無 |
本次公開的采購意向是本單位政府采購工作的初步安排,具體采購項(xiàng)目情況以相關(guān)采購公告和采購文件為準(zhǔn)。
(略)
發(fā)布時(shí)間:2022-11-15
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